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極薄ゲート酸化膜poly-Si TFTの作製・評価
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/441
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/4419c1a763b-9429-49ee-a741-86e6b82c48b1
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | [ELS]紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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公開日 | 2017-04-21 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 極薄ゲート酸化膜poly-Si TFTの作製・評価 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Fabrication and evaluation of ultra-thin gate oxide poly-Si TFTs | |||||
言語 | en | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
雑誌書誌ID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AN00159741 | |||||
論文名よみ | ||||||
タイトル | ゴクハク ゲート サンカマク poly-Si TFT ノ サクセイ ヒョウカ | |||||
著者 |
磯邉, 康孝
× 磯邉, 康孝× 佐藤, 利文× 丹呉, 浩侑× Isobe, Yasutaka× Sato, Toshifumi× Tango, Hiroyuki |
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著者所属(日) | ||||||
値 | 新日本無線株式会社 | |||||
著者所属(日) | ||||||
値 | 東京工芸大学工学部メディア画像学科 | |||||
著者所属(日) | ||||||
値 | 東京工芸大学工学部システム電子情報学科 | |||||
記事種別(日) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 論文 | |||||
記事種別(英) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | Article | |||||
書誌情報 |
東京工芸大学工学部紀要 en : The Academic Reports, the Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University 巻 29, 号 1, p. 132-139, 発行日 2006 |
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表示順 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 16 | |||||
アクセション番号 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | KJ00004551592 | |||||
ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
収録物識別子 | 03876055 |