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アイテム
高性能水素離脱測定装置
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/279
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/279f1abd147-d7a0-45f3-b511-0053c2b67d49
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KJ00001512054.pdf (486.7 kB)
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| Item type | [ELS]紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-04-21 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 高性能水素離脱測定装置 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | A High-Performance System for Hyrogen Evolution Measurement | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 雑誌書誌ID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN00159741 | |||||
| 論文名よみ | ||||||
| タイトル | コウセイノウ スイソリダツ ソクテイソウチ | |||||
| 著者 |
芦﨑, 馨介
× 芦﨑, 馨介× 西川, 泰央× 青木, 彪× ASHIZAKI, Keisuke× NISHIKAWA, Yasuo× AOKI, Takeshi |
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| 著者所属(日) | ||||||
| 東京工芸大学大学院工学研究科 | ||||||
| 著者所属(日) | ||||||
| 東京工芸大学工学部電子工学科 | ||||||
| 著者所属(日) | ||||||
| 東京工芸大学工学部電子工学科 | ||||||
| 記事種別(日) | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 論文 | |||||
| 記事種別(英) | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | Article | |||||
| 抄録(英) | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | The paper concerns a hydrogen evolution measuring system which adopts a minimized sample tube, VCR metal-sealing gaskets in a whole sampling system and personal-computerized temperature control and data processing. The quartz sample tube of 5mm diam. and 85mm length is welded to a Pylex glass of glass-metal transition tube having a VCR joint at a metal end. The heating rate can be varied from 0.6℃/min to 60℃/min and kept constant within ±10% for the rate more than 5℃/min except for a start of H-evolution, using ramp-function generated by PC for a set-point and PID control algorithm. The minimum weight, of the sample i. e. a-Ge : H with hydrogen content of 10 at. % is estimated to be 3μg from the back-ground pressure of 1.4mTorr at 800℃. Its consistency with the experimental observation is discussed reffering to molecular hydrogens trapped in the film. A preliminary observation of H-evolution spectra of a-Ge : H film produced by ECR plasma CVD also is described. | |||||
| 書誌情報 |
東京工芸大学工学部紀要 en : The Academic Reports, the Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University 巻 19, 号 1, p. 65-71, 発行日 1996 |
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| 表示順 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 14 | |||||
| アクセション番号 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | KJ00001512054 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 03876055 | |||||
