WEKO3
アイテム
六方晶バリウムフェライト薄膜用ZnO下地膜の構造制御
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/259
https://kougei.repo.nii.ac.jp/records/259e0731fe6-9f20-4ec0-ab48-54e535314944
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]() |
|
Item type | [ELS]紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2017-04-21 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 六方晶バリウムフェライト薄膜用ZnO下地膜の構造制御 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | COntrol of Structures of ZnO Underlayer for the Deposition of Hexagonal Barium Ferrite Thin Film | |||||
言語 | en | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
雑誌書誌ID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AN00159741 | |||||
論文名よみ | ||||||
タイトル | ロッポウショウ バリウムフェライト ハクマクヨウ ZnOシタジマク ノ コウゾウセイギョ | |||||
著者 |
久保田, 祐司
× 久保田, 祐司× 星, 陽一× KUBOTA, Yuji× HOSHI, Yoichi |
|||||
著者所属(日) | ||||||
東京工芸大学大学院光学研究科電子工学専攻 | ||||||
著者所属(日) | ||||||
東京工芸大学工学部電子工学科 | ||||||
記事種別(日) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 論文 | |||||
記事種別(英) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | Article | |||||
抄録(英) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | We attempted to reduce the crystallite size of a ZnO underlayer to make it possible to deposit hexagonal barium ferrite (BaM) thin film magnetic recording media with a crystallite size of less than 30 nm by using a facing targets sputtering system. The ZnO undrlayer was deposited at a substrate temperature of 250℃, since the crystallite size of ZnO films deposited at this temperature are changed little by annealing at temperatures as high as 600℃. The crystallite size of the ZnO underlayer decreased monotonically as the film thickness decreased, and was less than 20 nm in the film that was less than 20 nm thick. A 30 nm thick BaM film deposited on a 20 nm thick ZnO underlayer had a crystallite size of about 30 nm. The ZnO underlayer not only limits the crystallite size of the BaM film deposited on it,but also promotes crystallization in the film. Our findings indicate that by depositing a BaM film on a ZnO underlayer that is less than 20 nm thick, we can obtain a BaM thin film with a small crystallite size. | |||||
書誌情報 |
東京工芸大学工学部紀要 en : The Academic Reports, the Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University 巻 18, 号 1, p. 79-86, 発行日 1995 |
|||||
表示順 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 11 | |||||
アクセション番号 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | KJ00001512034 | |||||
ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
収録物識別子 | 03876055 |